主要用途：
　　微电子产品生产用高纯水，半导体、显象管制造业用超纯水，集成电路板生产清洗用超纯水，蓄电池、锂电池、太阳能电池、干电池等生产用水。

工艺流程一：反渗透+混床

工艺流程二：反渗透+EDI设备

  半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子水质技术分为五个行业等，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

电子工业超纯水的应用域
     1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水；
　　 2、超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水；
　　 3、实验室和中试车间用超纯水；
　　 4、汽车、家电表面抛光处理；
　　 5、光电子产品；
　　 6、其他高科技精微产品；