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【光学EDI超纯水设备】反渗透+EDI模块技术
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【光学EDI超纯水设备】反渗透+EDI模块技术

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设备*称:EDI超纯水设备

   行业用途:工业清洗

   设备水量:12T(可按照客户需求定制)

   生产水量:12T/小时

   工作方式:24小时连续工作

   控制方式:全自动控制

   进水温度:10℃—35℃

   进水水质:自来水  地下水

   出水水质:纯水(电导率≤0.1us/cm以内)

   纯水效率:65%以上

   额定电压:380V

   原水泵功率:4.4KW/小时

   高压泵功率:15KW/小时


光学EDI超纯水设备介绍

超纯水在光学*域中的重要作用日益突出,超纯水水质已成为影响光学器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一,光学EDI超纯水设备采用当反渗透+EDI模块技术,前置预处理配套使用加反渗透处理,有效去除水中各种盐份及杂质,然后运用EDI模块进一步提升水质,使出水达到光学行业用水要求,超纯水设备主要应用在光学*域的以下几个方面:

1:清洗需用超纯水,如果使用其它水中含有氯离子,电容器就会产生漏电。

2:在电子管生产中,电子管阴*需要涂碳酸盐,如其中混入杂质,就会影响电子的发射, 进而影响电子管的放大性能及寿命,因此其配液要使用光学EDI超纯水设备或电子工业用edi超纯水设备生产的超纯水。

3:在显象管和阴*射线管生产中,其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质,是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成,其配制也需用超纯水,如果水中含铜在8ppb以上,就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变 暗、闪光跳跃;含奇有机物胶体、微粒、细菌等,就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力,并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品所以要用到光学EDI超纯水设备生产出来的水。

4:显象管荧光屏生产的 12个工序中,玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用超纯水。晶显示器的屏面需有超纯水清洗和用超纯水配液,如水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质,就会使液晶显示电路发生故障,影响液晶屏质量不良品会增多。



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